半导体的新闻

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Veeco收到用于无线应用的GEN2000分子束外延系统订单

Veeco Instruments公司今天宣布，其GEN2000(TM)分子束外延(MBE)系统已从一家领先的无线设备制造商获得多个系统订单。7x6“晶圆GEN2000系统将…

2004年7月29日

纳米市场发布纳米技术趋势白皮书

nanommarkets, LC，一家领先的纳米技术行业市场研究和分析公司，今天宣布发布了一份新的白皮书，题为“为什么现在是纳米技术?”这篇论文准确地指出了en…

2004年7月28日

LED全向反射器可以点亮LED，足以取代传统灯泡

伦斯勒理工学院(Rensselaer Polytechnic Institute)的一个研究小组发明了一种新型反射器，极大地提高了LED(发光二极管)的亮度。国家科学基金会(NSF)最亚博老虎机网登录近授予了该保护区…

2004年7月26日

三星电子在奥斯汀基地展开了包括纳米级能力在内的扩张计划

世界先进半导体存储技术的领导者三星电子公司今天在奥斯汀存储芯片制造工厂扩建的第二阶段破土动工。3.4万平方英尺的…

2004年7月26日

获得纳米层沉积两项关键专利

Tegal公司今天宣布，他们已经获得了美国专利，No. 6,689,220和6,756,318，使纳米层沉积(NLD)的保角薄膜的屏障，铜种子和高k介电…

2004年7月23日

Silicon Quest International指定Topsil浮子区硅产品在美国的独家经销商

硅Quest国际公司(SQI)和Topsil半导体材料公司(Topsil Semiconductor Material亚博网站下载s)宣布签署协议，在美国独家销售Topsil Float Zone产品，范围从气相掺杂产品到…

2004年7月23日

20微米厚的晶圆，可使用3M超薄半导体晶圆后磨系统

3M推出用于超薄半导体晶片背面磨削的3M晶片支撑系统。该新系统是传统胶带反磨工艺的替代方案，能够生产薄至2…

2004年7月21日

3M公司推出了用于半导体CMP的高性能金刚石抛光护发素

3M公司今天推出了一款创新的高性能钻石垫护发素- 3M钻石垫护发素A4-55 -用于氧化化学机械平整(CMP)，支持3M公司对质量的承诺。

2004年7月13日

3M推出超薄晶片后磨系统

3M推出用于超薄半导体晶片背面磨削的3M晶片支撑系统。该新系统是传统胶带反磨工艺的替代方案，能够生产薄至2…

2004年7月13日

东京电子在亚洲半导体市场的占有率不断提高

根据《亚洲微电子市场:中国》亚博网站下载的报告，虽然2004年应用材料仍将是半导体设备市场的领导者，但东京电子(TEL)app亚博体育可能会成为日本的第一名。

2004年7月13日

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20微米厚的晶圆，可使用3M超薄半导体晶圆后磨系统

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东京电子在亚洲半导体市场的占有率不断提高

在快速变化的环境中加强产品开发

将二氧化碳的电化学转化用于可持续生产塑料、燃料和有价值的化学品

将质谱分析中的环境电离技术引入世界

PTR技术的最高质量分辨率与PTR- tof 10k

发现TMA 450 RH -热分析仪，具有专门的湿度分析

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1科学家解决了有机太阳能电池低效率的问题

2研究人员研究蓝色贻贝开发适用于潮湿条件的粘合剂

3.新型水凝胶片，快速净化河水

4研究人员开发了新型可穿戴磁弹性发电机

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