Evactron等离子清洗系统用于使用氢气进行碳净化

XEI Scientific Inc.电子显微镜和其他真空室的流行Evactron等离子清洁系统的制造商报告了使用氢气清洁碳净化的用途。

XEI Scientific，Inc.继续扩大Evactron E45去污系统的使用。Gabe Morgan博士在3月初的SPIE高级光刻会议上的报告表明，使用Evactron等离子体产生的原子氢可以有效地清除EUV光学元件中的碳污染。

为了使半导体工业继续制造更小的特性，光刻系统正在向更短的波长（如EUV）移动，并且所需的非常精细和昂贵的光学元件可能会因氧气清洗而损坏。使用带有氢气的Evactron等离子体清洗系统产生了原子氢，并成功地去除了EUV反射镜上的碳氢化合物污染。清洁率在纳米/分钟范围内，距离远程等离子体源30厘米。

XEI和该领域选定合作伙伴的工作仍在继续，以优化系统参数，实现良好特性和可靠的下游等离子体清洗，从而为未来半导体生产提供这一重要解决方案。

XEI的机架式型号可以嵌入SEM，FIB和其他电子束系统。它们除去碳污染，例如碳氢化合物或大气污染。所有Evactron De-Constaminer（D-CS）系统使用RF等离子体来产生氧气自由基，通过腔室下游流动，除去污染。它们也可以安全地使用X射线窗户，并提供免费的5年有限保修和工厂维修服务。