Polyglass U.S.A. Inc.是针对低和陡坡应用的屋顶和防水解决方案的领先制造商，宣布Polystick®MU-X自贴，高温底层已重新设计。Polystick Mu-X的二次水壁层具有增强的黑色聚丙烯膜，可提高膜的步行性并减少出血。
Polystick Mu-X专为高温环境而设计。它被评为耐温度为250°F，其曝光窗口为90天，以进行工作灵活。Polystick Mu-X具有专有的SBS修改沥青上层化合物和专利ADESO®钢筋底侧的双重化合物自粘技术。卷底部的拆分胶片可以易于应用。在两个边缘上打印的方便的3英寸外行线条允许双向安装，节省时间和人工。
“我们对我们对Polystick Mu-X底层的性能提高感到兴奋。”多角形首席执行官Natalino Zanchetta。“我们根据客户的反馈以及我们对满足或超出客户期望并提高客户满意度来增加价值的承诺进行了增强。”
来源：http://www.polyglass.com/