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新SENDURO®MEMS -用于MEMS和传感器制造的薄膜质量控制

SENTECH Instruments是用于蚀刻和沉积的等离子体工艺技术设备以及基于光谱椭偏仪的薄膜计量仪器的领先供应商。app亚博体育

SENTECH自豪地推出了用于传感器和MEMS生产的全自动计量质量控制的SENDURO®MEMS。senuro®MEMS使用光谱反射仪和椭偏仪提供了可靠和精确的薄膜堆栈测量。

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配备反射计的SENDURO®MEMS用于快速薄膜测量。结合光谱椭偏仪测量薄膜厚度和光学常数,并对多层叠层进行分析。SENDURO®MEMS可配置反射仪和椭偏仪中的μ点测量,以及提供精确测量位置的模式识别。所有测量都可以与edge grip技术相结合。

基于SENTECH最精确的步进扫描分析仪测量模式,光谱反射仪和光谱椭偏仪的组合提供了薄膜分析方面的最高灵活性和准确性。它由SENTECH综合频谱/4软件操作。SECS/GEM软件接口选项支持工厂主机(MES)和生产设备(SENDURO®MEMS)之间的通信。app亚博体育

自动晶圆处理

SENDURO®MEMS允许处理双面晶圆。对于100毫米、150毫米和200毫米晶圆片,可选择使用带有小边缘排除的边缘夹持晶圆片处理。

该工具配备机器人和预对准器,用于使用盒式磁带自动加载晶圆。单点和多点测量由高达200 mm的x-y映射支持。模式识别可用于微斑光谱椭偏仪(100 x 100μm2)和微斑反射仪(80μm2)。

多种材料的测量亚博网站下载

SENDURO®MEMS是一种全自动薄膜计量工具,用于测量多种材料,如氧化硅、氮化硅、氮化硅;非晶硅、多晶硅;光致抗蚀剂,聚酰亚胺;铝、铂、铬等金属薄膜和锡、钽、TCO、ITO等导电薄膜;硅晶片、绝缘体亚博网站下载衬底上的硅、硅膜、硅上的GaN、SiC等材料的单层膜和叠层,用于MEMS和传感器生产。

SENDURO®MEMS非常适合通过在一个工具中结合椭偏仪和反射仪来优化测量速度、精度和光斑大小。对于MEMS和传感器制造行业而言,该系统是一种经济高效的资产。

引用

请在你的文章、论文或报告中使用下列格式之一来引用这篇文章:

  • 美国心理学协会

    Sentech仪器。(2019年7月11日)。新SENDURO®MEMS -用于MEMS和传感器制造的薄膜质量控制。AZoM。于2021年9月30日从//www.washintong.com/news.aspx?newsID=51654检索。

  • MLA

    Sentech仪器。新SENDURO®MEMS -用于MEMS和传感器制造的薄膜质量控制。AZoM. 2021年9月30日.

  • 芝加哥

    Sentech仪器。新SENDURO®MEMS -用于MEMS和传感器制造的薄膜质量控制。AZoM。//www.washintong.com/news.aspx?newsID=51654。(2021年9月30日生效)。

  • 哈佛大学

    Sentech工具。2019。新SENDURO®MEMS -用于MEMS和传感器制造的薄膜质量控制. 亚速姆,2021年9月30日查看,//www.washintong.com/news.aspx?newsID=51654.

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