2005年7月18日
对于计算机，磁盘驱动器和其他复杂技术的制造商来说，指导原则是芯片和其他组件的表面越平滑，这些设备和产品本身就越好。
因此，一些制造商可能会惊讶地发现，一种快速且越来越流行的测量表面纹理的方法会产生误导性结果。正如最近的会议和即将发行的Applied Optics报道的那样，一个团队国家标准研究所研究人员发现，1990年代初期引入的白光干涉显微镜制成的粗糙度测量值与其他两种表面促进方法获得的粗糙度测量值差异高达80％。
干涉显微镜用于通过分析由两个光束产生的干扰模式来测量表面高度，长度和空间，其中一个由参考样本反射，另一个由感兴趣的对象反射。
迄今为止，该团队已经评估了来自三个不同供应商的五种白光乐器。他们比较了光栅的粗糙度测量以及波浪状表面和随机表面。
将白光干涉仪与“相位转移”干涉仪进行比较，这些干涉仪使用专门的单色光源，并具有准确但有时具有破坏性的手写笔谱图仪器，可在表面上追踪尖锐的探针。后两个工具在相移干涉仪的预期测量范围内的测试样品范围内是一致的。为了测量相对粗糙的表面，白光干涉仪还产生了密切相对应的结果。但是，对于平均粗糙度在50至300纳米之间的表面测量值，结果显着差异，达到约100纳米的峰值。
NIST的表面和微型计量组的负责人Ted Vorburger解释说：“差异似乎与表面轮廓的特定白光仪器无关。”
比较研究是为制定国际标准的一部分，以进行表面纹理的三维测量。NIST研究人员现在正在评估观察到的差异的理论解释。
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