IMEC现宣布它正在扩展EUV(极紫外线)Lithscript研究程序,并配有并行专用EUV掩码清洗研究程序程序基础是IMEC和HamaTechAPEGmbH+CKGHamaTechmaTrackpicmask处理系统已被选为记录清洗工具,并安装在IMEC300毫米净化室内,公司将在那里协同研究以达到EUV平面画严格掩模完整性要求
协作使IMEC向感兴趣的伙伴提供创新掩蔽技术开发记录流程以扩展EUV平面研究
不同于今日光学平面图使用光片,EUV面罩极有可能没有ellcles使掩膜敏感粒子和有机污染yabo214清洗EUV面罩靠近裂纹屏障降低增粒或有机沾染增增损风险
IMEC掩码清洗程序开发记录过程EUV掩码清洗有效消除兴趣沾染,但温和可重复应用而不减少掩码存续额外调查优化EUV后端清洗过程不影响前端程序,作为总体掩码清洗程序的一部分,将有助于保持EUV扫描仪重叠性能
程序主管Kurt Ronse表示,“过去一年里,我们在EUV抗药性方面取得长足进展,但在点接触点免缺陷口罩已成为2010年EUV试点制作方面日益令人关切的问题。提供合作伙伴高级研究 关键EUV掩码MaskTrackPro安装和我们与HamaTech团队持续协作研究,确保在2009年底前向IMEC300毫米研究设施感兴趣的伙伴提供完全掩体完整性基础设施
MaskTrackPro将masktrak工具性能与创新清洁技术并发系统设计全方位掩码完整性,侧重于193i 22nm半双投图式设计、EUV和Nano-ImprintLithyabo214系统特征聚焦点清除TM精确清除隐蔽区粒子,修复后省下大量时间并消除后侧污染引起的最硬叠问题物理清洗技术与化学清洗技术的独特组合证明高效清除有机和无机污染,不损及脆弱吸收器和封套层(SPIE,2009年3月)(SPIE,2009年3月)。MaskTrackPro全局方法掩蔽完整性确保回文免脱故障接触,为客户提供急剧增加的接触工具可用性与恢复时间
哈马高伦-赫姆肯斯首席执行官Wilma Koolen-Hermkens表示 :yabo214MaskTrackPro系统是业界中第一个处理EUVL零容度系统MaskTrack Pro使用世界级设计允许聚类计量系统并编播嵌套以全套掩码管理法IMEC选择搭建必备PORs