薄电路操作域墙

亚博网站下载继续吸引注意力 高性能由石墨显示 超真奇特素材 世界各地的研究者 继续努力用其他潜在有用素材仿真 稀薄固有设计

亚博网站下载由RaymondMcQuaid、Amit Kumar和MartyGreg率领的一组研究人员自寻死路开发晶状材料中的域墙

探索开发更多紧细电子设备同时向消费者提供提高功能速度、增加存储存储器和其他必要组件,使研究人员注重这些设备中的电路要创建小电子设备,必须安装小电路,然而,这些设备内对多先进组件的需求往往会增加最终产品规模

域墙先前确定,薄膜BiFeIO显示时保持一致性传导₃电路难以保持电阻配置稳定更具体地说,尽管技术开发用于适当的电电应用,但严重缺乏控制域墙电量状态技术

皇后大学研究者开发方法以控制充电域墙传导性时使用电速异常Cu₃B级₇O级₁₃单晶体 更正式地称Cu-Clboracite单晶板地形确认测量方法使用原子力显微镜和纳米空间解析当前映射测量域墙传导性

Cu-Clbracite晶体展示头对头90度域墙以及尾对尾90度墙和卸载180度域墙本研究中采用的写法对域墙是独一无二的,因为研究人员按1GPa压序对晶体表面应用微薄金属探针

当压力应用到晶体表面时,发现域墙运动量增加,从而启动导域墙模式增长,可伸展到域墙全长

域墙独有导电性在考虑晶体结构长度和厚度时特别令人印象深刻人工合成时Cu-Clbracite晶体量数百微米长度,同时保持极薄结构测量数纳米厚

强度应用压力影响微电路沿域墙开发的同时,它也改变了电路本身的具体性质。应用探针启动创建这些域 环接金属探针与晶体表面的接触点 从而创建独特的导电墙模式

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除易操作外,加压晶体外,这些墙内应用电场可改变微电路产生地,这有可能成为电压操作设备域墙未来应用的有用工具

开发可重构电子设备继续令特定行业感兴趣,本研究开发的工作有可能改变这些微电路在有用产品中的开发与行为

皇后大学研究者敦促未来工作深入理解温度和压力变异如何影响这些域墙的稳定性和惯性

引用 :

1. 输入并控制域墙不适当Cu-Clboracite麦奎德Campbell等自然通信.2017年DOI:10.1038/ncomms15105
2. Image: Shutterstock.com/tcareob72

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